氦质谱检漏仪在PECVD镀膜设备工艺中的应用

等离子增强化学气相沉积(PECVD)真空镀膜设备是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应。其优点是基本温度低;沉积速率快;成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。

PECVD真空镀膜设备几天就需要保养一次(清洁MASK, 更换支架等等), 由于是清洁设备内部, 所以存在内部腔体密封性失效的可能. 如果镀膜设备密封性不好, 镀出来的产品膜厚会不均匀, 产品四周膜参数会不合格.

在PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应。因此PECVD设备对反应腔室及管道的泄漏要求很高,必须要应用氦质谱检漏仪来查找漏点。如果镀膜设备保养完成后, 能做一次氦质谱检漏, 就可以避免很多不合格产品的产生, 达到节约生产成本的目的.

安徽诺益科技生产的氦质谱检漏仪凭借卓越的品质及稳定的性能已广泛应用在众多行业上,满足各种应用.公司建立了完善的售后服务体系,配备了专业的维修工程师,对客户的服务要求实行24小时响应,为产品的稳定运行提供了有力的保障。

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